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现在科技发展很快，技术的提升包括很多方方面面，而对于清洗技术同样也不能落后，都需要技术的创新，加上光电子产业的迅猛发展，精密清洗已成为光电子产品表面处理中必不可少的工艺之一，它对于提升产品的外观、精度、质量等方面起很大作用。
生活中无处设备都有清洗，包括光学器件、石英晶体、密封技术、氧化膜等光电子精密零部件愈加高性能和微型化，现在对表面洁净度越来越高。正常来说，常见的清洗方法有很多种，如水洗、化学溶液洗、超声波清洗等，但是之前的清洗不能满足光电子领域的精密清洗要求。因此，国内外广泛使用的精密清洗方法是紫外光(UV)清洗。采用紫外光清洗技术是一个卓越的性能和效果的进步，它能够达到常规的清洗方法难以达到的高清洁度，成为光电子产品清洗领域一股别样的风流，下面说说紫外光清洗技术详细工作原理过程：
① 发射高能量光波
UV光源能同时发射波长254nm和185nm的紫外光，具有很高的能量，这两种波长的光子能量可以直接打开和切断有机物分子中的共价键，使有机物分子活化，分解成离子、游离态原子、受激分子等。
② 持续的光敏反应
与此同时，185nm波长紫外光的光能量能将空气中的氧气（O2）分解成臭氧（O3）；而254nm波长的紫外光的光能量能将O3分解成O2和活性氧（O），这个光敏氧化反应过程是连续进行的。
③ 达到清除有机污染物目的
在这两种短波紫外光的照射下，臭氧会不断的生成和分解，活性氧原子就会不断的生成，而且越来越多，由于活性氧原子（O）有强烈的氧化作用，与活化了的有机物（即碳氢化合物）分子发生氧化反应，生成挥发性气体（如CO2，CO，H2O，NO等）逸出物体表面，从表面消散被排风系统抽走，从而彻底清除了粘附在物体表面上的有机污染物。
