欢迎来到工业设备清洗全产业链平台 - 清洗汇平台! 客服热线:4001512808

带你了解紫外光清洗技术详细工作原理

2022-05-12 17:03:19浏览:173 来源:克林猫   
核心摘要:

联系在线客服,免费下载本资料文档,若您需要下载其他网络资源,也可求助客服哦~ 点击联系客服

现在科技发展很快,技术的提升包括很多方方面面,而对于清洗技术同样也不能落后,都需要技术的创新,加上光电子产业的迅猛发展,精密清洗已成为光电子产品表面处理中必不可少的工艺之一,它对于提升产品的外观、精度、质量等方面起很大作用。

 

生活中无处设备都有清洗,包括光学器件、石英晶体、密封技术、氧化膜等光电子精密零部件愈加高性能和微型化,现在对表面洁净度越来越高。正常来说,常见的清洗方法有很多种,如水洗、化学溶液洗、超声波清洗等但是之前的清洗不能满足光电子领域的精密清洗要求。因此,国内外广泛使用的精密清洗方法是紫外光(UV)清洗。采用紫外光清洗技术一个卓越的性能和效果进步能够达到常规的清洗方法难以达到的高清洁度,成为光电子产品清洗领域一股别样的风流下面说说紫外光清洗技术详细工作原理过程:

 

① 发射高能量光波

UV光源能同时发射波长254nm和185nm的紫外光,具有很高的能量,这两种波长的光子能量可以直接打开和切断有机物分子中的共价键,使有机物分子活化,分解成离子、游离态原子、受激分子等。

 

② 持续的光敏反应

与此同时,185nm波长紫外光的光能量能将空气中的氧气(O2)分解成臭氧(O3);而254nm波长的紫外光的光能量能将O3分解成O2和活性氧(O),这个光敏氧化反应过程是连续进行的。

 

1-2205121F354132.png

 

③ 达到清除有机污染物目的

在这两种短波紫外光的照射下,臭氧会不断的生成和分解,活性氧原子就会不断的生成,而且越来越多,由于活性氧原子(O)有强烈的氧化作用,与活化了的有机物(即碳氢化合物)分子发生氧化反应,生成挥发性气体(如CO2,CO,H2O,NO等)逸出物体表面,从表面消散被排风系统抽走,从而彻底清除了粘附在物体表面上的有机污染物。


下一篇: 暂无
上一篇:

油烟机维修的分析方法

打赏
免责声明
• 
本文仅代表作者个人观点,本站未对其内容进行核实,请读者仅做参考,如若文中涉及有违公德、触犯法律的内容,一经发现,立即删除,作者需自行承担相应责任。涉及到版权或其他问题,请及时联系我们 XXXXX@xxxx.cn